Вступ.
Високочастотні індукційні (ВЧІ) плазмотрони і їх розрахунок
Високочастотний індукційний (ВЧІ) плазмотрон — це пристрій, що дозволяє отримувати за атмосферного тиску плазму з температурою 700−11 000 К. Потужність сучасних ВЧІ-плазмотронів складає величну від одиниць до тисяч кіловат. Нагрівання плазми у високочастотному безелектродному плазмотроні індукційного типу являє собою добре відомий закон електромагнітної індукції, тобто індукційного нагрівання… Читати ще >
Вступ. Високочастотні індукційні (ВЧІ) плазмотрони і їх розрахунок (реферат, курсова, диплом, контрольна)
Високочастотний індукційний (ВЧІ) плазмотрон — це пристрій, що дозволяє отримувати за атмосферного тиску плазму з температурою 700−11 000 К. Потужність сучасних ВЧІ-плазмотронів складає величну від одиниць до тисяч кіловат. Нагрівання плазми у високочастотному безелектродному плазмотроні індукційного типу являє собою добре відомий закон електромагнітної індукції, тобто індукційного нагрівання провідного середовища у змінному (високочастотному) електромагнітному полі. Провідним середовищем у даному випадку є іонізований газ — плазма. Високочастотне змінне магнітне поле індуктора індукує у плазмі кільцевий струм. Безелектродна кільцева форма струму, відсутність електродів визначають чистоту плазми у такому плазмотроні. Для утворення у плазмотроні провідного середовища за атмосферного тиску необхідно перш за все іонізувати газ від стороннього джерела, тобто «запалити» плазмотрон.
Після «запалювання» у розрядній камері ВЧІ-плазмотрона виникає самопідтримний стаціонарний безелектродний індукційний розряд за атмосферного тиску. Здійснюючи продування газу крізь розрядну камеру на виході плазмотрона можна отримати високотемпературний струмінь.
Завдяки безелектродній кільцевій формі струмів ВЧІ-плазмотрон є одним з небагатьох джерел, що дозволяють генерувати плазму, що не є забрудненою матеріалами електродів. До того ж ВЧІ-плазмотрон має практично необмежений ресурс роботи у будь-якому газовому середовищі. 1].
Ці та інші особливості ВЧІ-плазмотронів зробили їх незамінними у багатьох технологічних застосуваннях. Найпоширеніші технологічні процеси за участю ВЧІ-плазмотронів:
- -синтез TiO2;
- -сфероідизація гранульованих порошків;
- -сфероідизація пороків тугоплавких матеріалів;
- -отримання SiO;
- -спектральний аналіз.
Проте відсутність універсальності ВЧІ-плазмотронів вимагає гарних знань цієї області техніки та доброго володіння нею для ефективного використання плазмотронів. Саме тому дуже важливим є розрахунок основних параметрів ВЧІ-плазмотрона. Існуючі методи та формули для розрахунків надають можливість кваліфіковано визначити такі характеристики ВЧІ-плазмотронів, які найбільшою мірою відповідають параметрам оптимального технологічного процесу.
Зазвичай розрахунку підлягають наступні характеристики ВЧІ-плазмотрона:
- -конструкція ВЧІ-плазмотрона;
- -теплові параметри плазми;
- -енергетичні та електричні параметри плазмотрона. 2]
Їх і розглянемо.
високочастотний плазмотрон електричний індуктор