Допомога у написанні освітніх робіт...
Допоможемо швидко та з гарантією якості!

Вступ. 
Високочастотні індукційні (ВЧІ) плазмотрони і їх розрахунок

РефератДопомога в написанніДізнатися вартістьмоєї роботи

Високочастотний індукційний (ВЧІ) плазмотрон — це пристрій, що дозволяє отримувати за атмосферного тиску плазму з температурою 700−11 000 К. Потужність сучасних ВЧІ-плазмотронів складає величну від одиниць до тисяч кіловат. Нагрівання плазми у високочастотному безелектродному плазмотроні індукційного типу являє собою добре відомий закон електромагнітної індукції, тобто індукційного нагрівання… Читати ще >

Вступ. Високочастотні індукційні (ВЧІ) плазмотрони і їх розрахунок (реферат, курсова, диплом, контрольна)

Високочастотний індукційний (ВЧІ) плазмотрон — це пристрій, що дозволяє отримувати за атмосферного тиску плазму з температурою 700−11 000 К. Потужність сучасних ВЧІ-плазмотронів складає величну від одиниць до тисяч кіловат. Нагрівання плазми у високочастотному безелектродному плазмотроні індукційного типу являє собою добре відомий закон електромагнітної індукції, тобто індукційного нагрівання провідного середовища у змінному (високочастотному) електромагнітному полі. Провідним середовищем у даному випадку є іонізований газ — плазма. Високочастотне змінне магнітне поле індуктора індукує у плазмі кільцевий струм. Безелектродна кільцева форма струму, відсутність електродів визначають чистоту плазми у такому плазмотроні. Для утворення у плазмотроні провідного середовища за атмосферного тиску необхідно перш за все іонізувати газ від стороннього джерела, тобто «запалити» плазмотрон.

Після «запалювання» у розрядній камері ВЧІ-плазмотрона виникає самопідтримний стаціонарний безелектродний індукційний розряд за атмосферного тиску. Здійснюючи продування газу крізь розрядну камеру на виході плазмотрона можна отримати високотемпературний струмінь.

Завдяки безелектродній кільцевій формі струмів ВЧІ-плазмотрон є одним з небагатьох джерел, що дозволяють генерувати плазму, що не є забрудненою матеріалами електродів. До того ж ВЧІ-плазмотрон має практично необмежений ресурс роботи у будь-якому газовому середовищі. 1].

Ці та інші особливості ВЧІ-плазмотронів зробили їх незамінними у багатьох технологічних застосуваннях. Найпоширеніші технологічні процеси за участю ВЧІ-плазмотронів:

  • -синтез TiO2;
  • -сфероідизація гранульованих порошків;
  • -сфероідизація пороків тугоплавких матеріалів;
  • -отримання SiO;
  • -спектральний аналіз.

Проте відсутність універсальності ВЧІ-плазмотронів вимагає гарних знань цієї області техніки та доброго володіння нею для ефективного використання плазмотронів. Саме тому дуже важливим є розрахунок основних параметрів ВЧІ-плазмотрона. Існуючі методи та формули для розрахунків надають можливість кваліфіковано визначити такі характеристики ВЧІ-плазмотронів, які найбільшою мірою відповідають параметрам оптимального технологічного процесу.

Зазвичай розрахунку підлягають наступні характеристики ВЧІ-плазмотрона:

  • -конструкція ВЧІ-плазмотрона;
  • -теплові параметри плазми;
  • -енергетичні та електричні параметри плазмотрона. 2]

Їх і розглянемо.

високочастотний плазмотрон електричний індуктор

Показати весь текст
Заповнити форму поточною роботою